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◆エッセイ・寄稿

Voice of CMP第27回(2015/02/17)「研磨シミュレーションと計測」

 名古屋大学 鈴木教和

Voice of CMP第26回(2014/07/04)「Is there a nice Panacea in CMP recipe?」

 Pusan National University Haedo Jeong (丁 海島)

Voice of CMP第25回(2013/12/19)「見えない可視光」

 九州工業大学 情報工学部 助教 カチョーンルンルアン パナート

Voice of CMP第24回(2013/08/06)「第5話 高精度研磨」

 埼玉大学名誉教授/(株)河西研磨技術特別研究室 代表取締役 河西 敏雄

Voice of CMP第23回「第4話 高品質研磨」

 埼玉大学名誉教授/(株)河西研磨技術特別研究室 代表取締役 河西 敏雄

Voice of CMP第22回「第3話 研磨加工に携わって50数年」

 埼玉大学名誉教授/(株)河西研磨技術特別研究室 代表取締役 河西 敏雄

Voice of CMP第21回「第2話 研磨加工の20世紀前半までの技術展開」

 埼玉大学名誉教授/(株)河西研磨技術特別研究室 代表取締役 河西 敏雄

Voice of CMP第20回「第1話 研磨加工のルーツ」

 埼玉大学名誉教授/(株)河西研磨技術特別研究室 代表取締役 河西 敏雄

CMP情報(2012 / 04 / 18)応用分野を広げ拡大するCMP市場

 グローバルネット株式会社 代表取締役社長 武野泰彦氏

 出典:月刊トライボロジー2011年11月号

Voice of CMP第19回「CMP今昔物語 第3話 スラリー ~PolishingとPlanarization 」

 (財)越山科学技術振興財団 理事長/元フジミインコーポレーテッド会長 越山 勇

Voice of CMP第18回「CMP今昔物語 第2話 研磨装置メーカー怒涛の戦国時代」

 (財)越山科学技術振興財団 理事長/元フジミインコーポレーテッド会長 越山 勇

Voice of CMP第17回「CMP今昔物語 第1話 ポリシングパッドの近代史」

 (財)越山科学技術振興財団 理事長/元フジミインコーポレーテッド会長 越山 勇

CMP情報(2010 / 12 / 10)小型化/高密度化の中で、ますます必要とされるCMP技術

 グローバルネット株式会社 代表取締役社長 武野泰彦氏

 出典:月刊トライボロジー2010年11月号

Voice of CMP第16回「私の経験したコロイダルシリカ発展の経緯とデバイスCMPスラリー」

 技術コンサルタント 吉田明利

Voice of CMP第15回「タモリとCMP」

 ニッタ・ハース株式会社 礒部 晶

Voice of CMP第14回「今は昔」

 イノテック株式会社 ソリューションビジネス統括部 木下 修

Voice of CMP第13回「SiN CMP」

 株式会社フィルテック テストウエハ事業部 村 直美

Voice of CMP第12回「ゲテモノですか?」

 株式会社ロキテクノ pad開発グループ 富永 茂

Voice of CMP第11回「日本とアメリカの狭間」

 旭サナック株式会社 NC事業部 清家 善之

Voice of CMP第10回「心臓3つあっても身が持たないCMP!」

 (株)ADEKA(旧 旭電化工業(株)) 電子材料開発研究所 木村 剛

Voice of CMP第9回「何だ!これは?」

 (株)フジミインコーポレーテッド 堀 和伸

Voice of CMP第8回「洗浄とCMP ~化学と物理の出会い」

 東北大学 未来科学技術共同研究センター 森永 均

CMP情報(2005 / 02 / 23)2005年の半導体マーケットの動向

 みずほ証券株式会社 エクイティ調査部 チーフアナリスト 若林秀樹氏

 2005年2月10日開催 第42回定例研究会(総会) での講演資料

Voice of CMP第7回「Voice of CMP from SiliconValley」

 Hitachi Chemical Co.America, Ltd. 黒澤 忠雄

Voice of CMP第6回「How can we estimate the amount of C in CMP」(原文)

 「CMPにおける C の比率をどう見積もるか?」(日本語訳)

 アリゾナ大学 Ara Philipossian教授

Voice of CMP第5回「ゴリゴリ」

 (株)東芝 小寺 雅子

Voice of CMP第4回「一点の曇り無く」

 (株)荏原製作所 辻村 学

Voice of CMP第3回「改革なくして成長なし?!」

 ロデール・ニッタ(株) 寺崎 忠士

Voice of CMP第2回

 NECエレクトロンデバイス 隣 真一

Voice of CMP第1回「徒然なるままに・・・・-海賊版単行本『半導体平坦化CMP』-」

 埼玉大学 土肥 俊郎

CMP情報(2003 / 02 / 05)トップインタビュー3

 -半導体応用市場は2004年本格回復へ!-

 日本電気株式会社 代表取締役会長 佐々木 元 氏

CMP情報(2002 / 05 / 13)トップインタビュー2

 -セミコンショーは巨大なネットワーク-

 SEMI ジャパン 代表 内田 傳之助 氏

CMP情報(2001 / 11 / 06)トップインタビュー1

 -レンズ研磨技術からCMP装置に参入-

 精密工学会 会長 株式会社ニコン 取締役会長兼CEO 吉田庄一郎 氏

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© 2015 The Planarization and CMP Technical Committee, The Japan Society for Precision Engineering (JSPE)

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